Utz, Alexander; Gendrisch, Lutz; Brögger, D.; Weiler, Dirk; Vogt, Holger:
Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion
In: MikroSystemTechnik Kongress 2011 : Proceedings - MikroSystemTechnik Kongress 2011; Darmstadt, Germany; 10.10.-12.10.2011 - Berlin: VDE Verlag, 2011
2011Aufsatz (Konferenz) in Tagungsband
Fakultät für Informations-, Medien- und Elektrotechnik » Institut für Angewandte Optik und Elektronik
Damit verbunden: 1 Publikation(en)
Titel:
Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion
Titel (übersetzt):
NETD Measurement of Far-infrared Imagers on Wafer-level Under Ambient Pressure in Batch Production
Autor*in:
Utz, AlexanderTH Köln
DHSB-ID
THK0067439
ORCID
0000-0002-1274-4563ORCID iD
SCOPUS
41961590500
Sonstiges
der TH Köln zugeordnete Person
;Gendrisch, Lutz;Brögger, D.;Weiler, Dirk;Vogt, Holger
Erscheinungsjahr:
2011
WWW URL:
https://www.vde-verlag.de/proceedings-de/453367035.html
Sprache des Textes:
Deutsch
Erschienen in
MikroSystemTechnik Kongress 2011 : Proceedings
Konferenz
MikroSystemTechnik Kongress 2011; Darmstadt, Germany; 10.10.-12.10.2011
Erscheinungsort:
Berlin
Verlag:
VDE Verlag
Erscheinungsjahr:
2011
ISBN
978-3-8007-3367-5
Ressourcentyp:
Text
Access Rights:
nur Zugriff auf Metadaten
Peer Reviewed:
Peer Reviewed
Praxispartner*in:
Nein
Kategorie:
Forschung
Teil der Statistik:
Nicht Teil der Statistik