Utz, Alexander; Gendrisch, Lutz; Brögger, D.; Weiler, Dirk; Vogt, Holger:
Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion
In: MikroSystemTechnik Kongress 2011 : Proceedings - MikroSystemTechnik Kongress 2011; Darmstadt, Germany; 10.10.-12.10.2011 - Berlin: VDE Verlag, 2011
2011Essay (Conference) in Conference proceedings
Faculty of Information, Media and Electrical Engineering » Institute of Applied Optics and Electronics
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Title:
Bestimmung der NETD von Fern-Infrarot Imagern auf Wafer-Level unter Umgebungsdruck in der Serienproduktion
Title (translated):
NETD Measurement of Far-infrared Imagers on Wafer-level Under Ambient Pressure in Batch Production
Author:
Utz, AlexanderTH Köln
DHSB-ID
THK0067439
ORCID
0000-0002-1274-4563ORCID iD
SCOPUS
41961590500
Other
person connected with TH Köln
;Gendrisch, Lutz;Brögger, D.;Weiler, Dirk;Vogt, Holger
Year of publication:
2011
WWW URL:
https://www.vde-verlag.de/proceedings-de/453367035.html
Language of text:
German
Appears in
MikroSystemTechnik Kongress 2011 : Proceedings
Conference
MikroSystemTechnik Kongress 2011; Darmstadt, Germany; 10.10.-12.10.2011
Place of publication:
Berlin
Publisher:
VDE Verlag
Year of publication:
2011
ISBN
978-3-8007-3367-5
Type of resource:
Text
Access Rights:
metadata only access
Peer Reviewed:
Peer Reviewed
Practice Partner:
No
Category:
Research
Part of statistic:
Not part of statistic